Izolyatorli gofretdagi kremniy

Qisqacha tavsif:

Semicera's Silicon On Isolator (SOI) Gofreti yuqori samarali ilovalar uchun ajoyib elektr izolyatsiyasi va issiqlik boshqaruvini ta'minlaydi. Qurilmaning yuqori samaradorligi va ishonchliligini ta'minlash uchun ishlab chiqilgan ushbu gofretlar ilg'or yarimo'tkazgich texnologiyasi uchun asosiy tanlovdir. Eng zamonaviy SOI gofret yechimlari uchun Semicera-ni tanlang.


Mahsulot detali

Mahsulot teglari

Semicera kompaniyasining Silicon On Insulator (SOI) gofreti yarimo‘tkazgichlar innovatsiyasida yetakchi bo‘lib, yaxshilangan elektr izolyatsiyasi va yuqori issiqlik ko‘rsatkichlarini taklif etadi. Izolyatsiya qiluvchi substratda yupqa kremniy qatlamidan tashkil topgan SOI strukturasi yuqori samarali elektron qurilmalar uchun muhim afzalliklarni beradi.

Bizning SOI gofretlarimiz yuqori tezlikda va past quvvatli integral mikrosxemalarni ishlab chiqish uchun zarur bo'lgan parazitar sig'im va oqish oqimlarini minimallashtirish uchun mo'ljallangan. Ushbu ilg'or texnologiya zamonaviy elektronika uchun hal qiluvchi ahamiyatga ega bo'lgan, yaxshilangan tezlik va kam energiya sarfi bilan qurilmalarning yanada samarali ishlashini ta'minlaydi.

Semicera tomonidan qo'llaniladigan ilg'or ishlab chiqarish jarayonlari SOI gofretlarini mukammal bir xillik va mustahkamlik bilan ishlab chiqarishni kafolatlaydi. Bu sifat ishonchli va yuqori unumdor komponentlar talab qilinadigan telekommunikatsiya, avtomobilsozlik va maishiy elektronikadagi ilovalar uchun juda muhimdir.

Elektr afzalliklaridan tashqari, Semicera SOI gofretlari yuqori issiqlik izolyatsiyasini taklif qiladi, yuqori zichlikdagi va yuqori quvvatli qurilmalarda issiqlik tarqalishini va barqarorligini oshiradi. Bu xususiyat, ayniqsa, sezilarli issiqlik ishlab chiqarishni o'z ichiga olgan va samarali issiqlik boshqaruvini talab qiladigan ilovalarda juda qimmatlidir.

Semicera's Silicon On Isolator Gofreni tanlash orqali siz ilg'or texnologiyalarni rivojlantirishni qo'llab-quvvatlovchi mahsulotga sarmoya kiritasiz. Sifat va innovatsiyalarga bo'lgan sodiqligimiz SOI gofretlarimiz bugungi yarimo'tkazgich sanoatining qat'iy talablariga javob berishini ta'minlaydi va keyingi avlod elektron qurilmalari uchun asos yaratadi.

Elementlar

Ishlab chiqarish

Tadqiqot

Qo'g'irchoq

Kristal parametrlari

Politip

4H

Yuzaki orientatsiya xatosi

<11-20 >4±0,15°

Elektr parametrlari

Dopant

n-turi azot

Qarshilik

0,015-0,025 ohm · sm

Mexanik parametrlar

Diametri

150,0±0,2 mm

Qalinligi

350±25 mkm

Birlamchi tekis orientatsiya

[1-100]±5°

Birlamchi tekis uzunlik

47,5±1,5 mm

Ikkilamchi kvartira

Yo'q

TTV

≤5 mkm

≤10 mkm

≤15 mkm

LTV

≤3 mkm (5mm*5mm)

≤5 mkm (5mm*5mm)

≤10 mkm (5mm*5mm)

Kamon

-15mm ~ 15mm

-35μm ~ 35μm

-45mm ~ 45mm

Buzilish

≤35 mkm

≤45 mkm

≤55 mkm

Old (si-yuz) pürüzlülüğü (AFM)

Ra≤0,2nm (5mm*5mm)

Tuzilishi

Mikrotrubaning zichligi

<1 ea/sm2

<10 ea/sm2

<15 ea/sm2

Metall aralashmalar

≤5E10atom/sm2

NA

BPD

≤1500 ea/sm2

≤3000 ea/sm2

NA

TSD

≤500 ea/sm2

≤1000 ea/sm2

NA

Old Sifat

Old

Si

Yuzaki ishlov berish

Si-face CMP

Zarrachalar

≤60ea/gofret (hajmi≥0,3 mkm)

NA

Chiziqlar

≤5ea/mm. Kümülatif uzunlik ≤Diametr

Kümülatif uzunlik≤2*Diametr

NA

Apelsin qobig'i / chuqurchalar / dog'lar / chiziqlar / yoriqlar / ifloslanish

Yo'q

NA

Yon chiplari / chuqurchalar / sinish / olti burchakli plitalar

Yo'q

Politipli hududlar

Yo'q

Kümülatif maydon≤20%

Kümülatif maydon≤30%

Old lazer belgisi

Yo'q

Orqaga Sifat

Orqa tugatish

C-yuzli CMP

Chiziqlar

≤5ea/mm,Kümülatif uzunlik≤2*Diametr

NA

Orqa nuqsonlar (chekka chiplari/cheklari)

Yo'q

Orqa pürüzlülük

Ra≤0,2nm (5mm*5mm)

Orqa lazer belgilari

1 mm (yuqori chetidan)

Chet

Chet

Chamfer

Qadoqlash

Qadoqlash

Vakuumli qadoqlash bilan epi-tayyor

Ko'p gofretli kassetali qadoqlash

*Izohlar: “NA” soʻrov yoʻq degan maʼnoni bildiradi.

tech_1_2_size
SiC gofretlari

  • Oldingi:
  • Keyingisi: